Китайський напівпровідниковий гігант SMIC давно перебуває під санкціями й не може купувати нове обладнання у провідного виробника в цій галузі ASML. Тому компанія зупинилася на техпроцесі 7 нм, оскільки не могла перейти на більш сучасне обладнання. Але китайський технологічний сектор активно шукає вихід із цієї ситуації. З’явилася інформація, що SMIC тестує нове китайське обладнання для DUV-літографії від шанхайської компанії Yuliangsheng.
Якщо випробування пройдуть успішно, то SMIC отримає можливість для розширення виробничих ліній. Китайські DUV-установки розраховані на виробництво чипів за технологією 7 нм. Але також на них нібито можна освоїти й «тонкіший» техпроцес за нормами 5 нм. Для китайської індустрії це може стати проривом.
Чутки про те, що SMIC намагається вийти на 5 нм ходять давно, але досі компанії це не вдалося. І всі фахівці сходяться на тому, що без сучасних EUV-літографів таке виробництво буде досить дорогим. Навіть у разі успішних випробувань літографічних апаратів Yuliangsheng компанія, найімовірніше, рухатиметься в бік розширення виробничих ліній на базі зрілих техпроцесів, щоб масштабувати виробництво з високим відсотком виходу придатних чипів.
Джерело:
Wccftech