Китайский полупроводниковый гигант SMIC давно находится под санкциями и не может приобретать новое оборудование у ведущего производителя в этой области ASML. Поэтому компания остановилась на техпроцессе 7 нм, поскольку не могла перейти на более современное оборудование. Но китайский технологический сектор активно ищет выход из этой ситуации. Появилась информация, что SMIC тестирует новое китайское оборудование для DUV-литографии от шанхайской компании Yuliangsheng.
Если испытания пройдут успешно, то SMIC получит возможность для расширения производственных линий. Китайские DUV-установки рассчитаны на производство чипов по технологии 7 нм. Но также на них якобы можно освоить и более тонкий техпроцесс по нормам 5 нм. Для китайской индустрии это может стать прорывом.
Слухи о том, что SMIC пытается выйти на 5 нм ходят давно, но до сих пор компании это не удалось. И все специалисты сходятся на том, что без современных EUV-литографов такое производство будет довольно дорогим. Даже в случае успешных испытаний литографических аппаратов Yuliangsheng компания, скорее всего, будет двигаться в сторону расширения производственных линий на базе зрелых техпроцессов, чтобы масштабировать производство при высоком проценте выхода годных чипов.
Источник:
Wccftech